1）半导体超净室

‌半导体洁净室的等级标准主要依据14644-1标准，分为以下几个等级‌：‌

‌ISO 14644-1级‌：这个等级是半导体洁净室的基础等级，主要控制空气中大于0.1μm的微粒数量，每立方米空气中微粒数量不超过3500个。

‌ISO 14644-2级‌：控制空气中大于0.2μm的微粒数量，每立方米空气中微粒数量不超过3500个。

‌ISO 14644-3级‌：控制空气中大于0.3μm的微粒数量，每立方米空气中微粒数量不超过3500个。

‌ISO 14644-4级‌：控制空气中大于0.5μm的微粒数量，每立方米空气中微粒数量不超过3500个。

‌晶圆制造区‌：光刻区要求最高，通常为ISO 1-3级，需控制0.1微米及以上的颗粒；刻蚀和沉积区一般为ISO 3-5级，需控制0.3微米及以上的颗粒。半导体制造过程中的八个主要工艺步骤。这些工艺步骤包括晶圆清洗、光刻、沉积、刻蚀、扩散、离子注入、退火和包封测试。 

2）医院净化工程

包含手术部、ICU、中心供应室、分娩室、层流病房、静脉配置中心、生殖医学中心、血库、血透中心、介入手术室、医气、防护。

设计理念:

术业专攻，充分从医疗工作环境和医护患沟通中获取设计灵感，将专科功能和建筑工艺完美融合，打破固有思维禁锢，设计具有文化、艺术、时代、前沿性的舒适环境。