1)半导体超净室
半导体洁净室的等级标准主要依据14644-1标准,分为以下几个等级:
ISO 14644-1级:这个等级是半导体洁净室的基础等级,主要控制空气中大于0.1μm的微粒数量,每立方米空气中微粒数量不超过3500个。
ISO 14644-2级:控制空气中大于0.2μm的微粒数量,每立方米空气中微粒数量不超过3500个。
ISO 14644-3级:控制空气中大于0.3μm的微粒数量,每立方米空气中微粒数量不超过3500个。
ISO 14644-4级:控制空气中大于0.5μm的微粒数量,每立方米空气中微粒数量不超过3500个。
晶圆制造区:光刻区要求最高,通常为ISO 1-3级,需控制0.1微米及以上的颗粒;刻蚀和沉积区一般为ISO 3-5级,需控制0.3微米及以上的颗粒。半导体制造过程中的八个主要工艺步骤。这些工艺步骤包括晶圆清洗、光刻、沉积、刻蚀、扩散、离子注入、退火和包封测试。
2)医院净化工程
包含手术部、ICU、中心供应室、分娩室、层流病房、静脉配置中心、生殖医学中心、血库、血透中心、介入手术室、医气、防护。
设计理念:
术业专攻,充分从医疗工作环境和医护患沟通中获取设计灵感,将专科功能和建筑工艺完美融合,打破固有思维禁锢,设计具有文化、艺术、时代、前沿性的舒适环境。
ICU效果图 | 手术室 |